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CIGS/CZTS 태양전지용 Mo 전극 성막 스퍼터링 시스템

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Mo electrode sputtering system for CIGS/CZTS solar cell

  • 모델명 RSP-5000
  • 제조사 에스엔텍
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2013-11-26
납품업체 에스엔텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 신재생에너지연구동 광주과학기술원 신재생에너지연구동 F2 201호
구성및성능 A. Process Type : Magnetron Sputtering System
B. System Configuration : One Process Chamber
C. Process Chamber
1) Chamber : SUS Material Non Cooling Type
2) Deposition Direction : Downward
3) Substrate Size : 100 mm x 100 mm 1 set
4) Power Supply : DC Power Supply 1 kW - 1 sets
5) Sputter Gun : 4 inch Magnetron Gun 1 set
6) Substrate : Rotation Unit 5~20 rpm
7) Gas Supply : Ar MFC
8-1) Vacuum Gauge : Baratron Gauge 0.1 Torr
8-2) Vacuum Gauge : Cold Cathode & Pirani Gauge 10-3~10-9 Torr 760~10-3 Torr
9) High Vacuum Pump Unit : TMP 800 L/sec 10) Low Vacuum Pump Unit : Rotary
Pump 800 L/min
10) Pressure Controller : Throttle Valve Manual Type
D. Software
1) Control type : PLC Based Touch Panel Control Manual Control
2) Interlock : Safety for System & Human
E. System Utility
1) Housing : All Electronic Sub-system Control Unit Pneumatics Water Gas & etc.
2) Water & Air Supply : PCW & CDA Pressure Indicator
3) Control Rack : All-in-on Rack
장비안내 CIGS/CZTS 태양전지 연구에 있어서 태양전지 내부에서 발생한 전류를 외부 회로로 보냄으로써 효율 측정 및 에너지 이용을 위해 Mo 배면 전극은 필수불가결한 요소 중의 하나임. Mo 배면 전극의 제 물성을 제어함으로써 보다 더 넓은 범위의 물성을 지니는 CIGS/CZTS active layer를 시험하여 전체 태양전지 효율 상승을 위한 최적화 시스템

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