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공동활용 연구장비

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마스크 정렬 노광기

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Mask Aligner System

  • 모델명 CA-6M
  • 제조사 신우엠에스티
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2012-05-10
납품업체 신우엠에스티
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F2 210
구성및성능 - High Efficiency, Uniform 350W UV Exposure System.
- Intensity Controlling Power Supply.？？？？？？？
- Wide range of options including special alignment
Optics.(한 장의 마스크로 다수의 패턴공정 가능 Option)
- Micron Printing and Precision Alignment System.
- User Settable Substrate to Mask Pressure.
- Soft and Hard Vacuum Contact Capability.
- Best precise Chuck Motion via Micrometers.
(X,Y,Z and Theta axis)
- Anti-Vibration Table.
장비안내 상기 시스템은 포토레지스트 즉 감광액이 코팅된 시료에 원하는 목적의 패턴을 가진 마스크과 정렬을 한 다음 일정시간동안 자외선을 조사하여 마스크의 미세패턴을 시료에 그대로 전사하는 것으로 Display, LED, Memory 등의 분야에 연구 및 생산에 적용되고 있다.
본장비의 특허인 한 장의 마스크로 여러 패턴을 찍어낼 수 있다는 것은 학교에서 연구비로 크게 부담을 느끼고 있는 마스크에 구입비용에 대한 절감효과를 얻을 수 있다.

반도체나 LCD 제조과정에는 빛을 쬐어 회로를 그리는 장치를 말하고 마스크(필름)을 겹친 위에서 빛을 쪼아 만들어 낸다.
이는 제품에 패턴이 들어가 있어 웨이퍼에 패턴을 찍는 반도체 공정을 수행하는 노광장치로 머리카락(1mm)에 1천분의 1만한 웨이퍼에 옮길 수 있다는 특징이 있다.


고효율, 350W UV Exposure System
집적화된 전원 조절장치

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