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자성 스퍼터링 시스템

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Magnetron sputtering system

  • 모델명 KVS-2003L
  • 제조사 코리아바큠테크㈜
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2011-10-14
납품업체 코리아바큠테크㈜
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F4 406
구성및성능 고체인 타겟재를 막의 원료로 하는 방법이므로 물리적증착법의 일종이다.
스퍼터링법은 피막의 다양성면에서 다른 물리적 진공증착공정에 비교하여 뛰어나다.
수백에서 수천 나노미터 두께를 가지는 Oxide 및 Metal 박막을 증착하는데 그 목적이 있으며,
Glass, Metal Foil 등 다양한 기판 적용이 가능하다.
본 장비는 특히 두께 모니터를 장착을 하고 있어서 두께 콘트롤도 가능하다.
장비안내 SPUTTER SYSTEM은 증착하고자 하는 물질(TARGET)을 SPUTTERING SOURCE 에 장착하여
R.F 또는 D.C POWER를 인가하면 Ar GAS 이온들이 기장착된 TARGET에 충돌하여 TARGET의 입자가 원하는 기판 (SAMPLE)에 증착될수 있도록 하여 원하는 FILM(박막)을 얻기 위한 장치이다.
고체인 타겟재를 막의 원료로 하는 방법이므로 물리적증착법의 일종이다.
스퍼터링법은 피막의 다양성면에서 다른 물리적 진공증착공정에 비교하여 뛰어나다.
수백에서 수천 나노미터 두께를 가지는 Oxide 및 Metal 박막을 증착하는데 그 목적이 있으며,
Glass, Metal Foil 등 다양한 기판 적용이 가능하다.
본 장비는 특히 두께 모니터를 장착을 하고 있어서 두께 콘트롤도 가능하다.

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