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Mask Alignment & Exposure System

  • 모델명 MDA-60MS
  • 제조사 마이다스시스템(주)
  • 장비용도 계측
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2011-12-14
납품업체 마이다스시스템(주)
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신재생에너지연구소 F1 101
구성및성능 1) Semi Auto System
- Auto exposure，Leveling and Z axis Stage motion
Manual loading，Unloading & Alignment
2) PC & PLC Control
3) Beam size : 8.25 x 8.25 inch
4) Sample size : up to 6 inch wafer
5) Mask size : 7 x 7 inch
6) Wafer Stage : X Y Z and Theta 4 Axis motion (Motorized Z & Theta Axis)
7) Auto leveling of mask and sample
8) 1 kw Mercury short arc lamp & Power supply
9) Dual CCD zoom microscope and 19" LCD Monitor
10) Anti-Vibration Table
11) Oil-less Vacuum Pump
12) Dimension(mm) : 1400mm*1100mm*1600mm[W*D*H]
장비안내 장비위치에 맞게 마스크를 내려놓고 기판과 맞게 좌우상하(Wafer Stage : X Y Z and Theta 4 Axis motion (Motorized Z & Theta Axis) 정렬을 한후에 회로의 패턴을 찍어서 노광하는 장비임.

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