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플라즈마화학증착기

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PECVD

  • 모델명 BCS5004
  • 제조사 에스엔텍
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비

상세정보

구축일자 2011-12-14
납품업체 에스엔텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F6 604호
구성및성능 Substrate Size 2″(32pcs) Wafer per Tray
Source PE Plasma Type
Source Power RF 1kw, 13.56Mhz
Heating Chuck Max. 400℃
Thickness Uniformity ≤±5%
장비안내 -과제명 : 광전자 소재 나노구조를 이용한 전자눈 카메라 (K02640)
-연구기간 : 2011.06.01~2011.12.31
-주관기관 : 광주과학기술원
-연구책임자 : 고흥조

Sample size : Max. 4 inch wafer, 1 pcs
Power source : RF 13.56 MHz
Deposition type : Plasma enhanced - CVD
Plasma type : Direct plasma
Substrate Temperature : 300 ℃
Working pressure : 500 mTorr ~ 1 Torr
Film Thickness Uniformity : ± 5 %
Film Thickness Uniformity Wafer to Wafer : ± 5 %
Pumping unit : Rotary pump

SiO2, Si3N4, a-Si 증착용
load-lock chamber 사용

SiO2, SiNx, Armorphos Si 등을 플라즈마화학증착할 수 있는 장치로 전기전자소자 개발에 꼭 필요한 공정 장비이다. 플렉시블 전기전자소자 개발을 위해 여러 Dielectric/반도체 박막 도포 물질의 도포를 효율적으로 할 수 있고 특히 이 장비를 이용할 경우 나노구조체를 이용한 전자눈 카메라에 필요한 etching mask, doping mask, dielectric, encapsulation layer 재작에 꼭 필요한 장비이다.

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