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공동활용 연구장비

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진공 챔버 정밀 분석 장비

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vacuum chamber C-V measurement

  • 모델명 MST-5000
  • 제조사 엠에스테크
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 프로브스테이션

상세정보

구축일자 2011-02-23
납품업체 엠에스테크
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) _ _ 정보통신공학부 A동 F5 516
구성및성능 - Vacuum chamber Temp : -180~200℃_LN2
- Vacuum condition : 10-3torr
- Low Noise Leakage Current(~10 fA level less than)
- MFC GAS Fusing 2 (N2 Ar) One shot Fusing system

Specification
- Low Current : 1 fA Resolution Control
- Chamver & Probe station
- Microscope (maximum : (~200x)
- High positioner body unit
- Positioner holder : low noise less than 1 fA leakage current
- Vacuum_chamber Probe tip
- Vacuum pump : low noise for lab
장비안내 - 온도 가변 상태에서 반도체 계면의 Capacitance 및 전기적 특성 측정
- 반도체 표면의 average doping concentration/doping profile/carrier lifetime 등을 측정

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