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열 화학기상증착 장비

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Thermal CVD System

  • 모델명 TSC5000
  • 제조사 에스엔텍
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비

상세정보

구축일자 2010-10-11
납품업체 에스엔텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 금호연구관 F2
구성및성능 구성
① Thermal CVD Chamber Unit
a. Process Chamber Ass'y
b. Vacuum Pumping Unit
c. Heating Unit
d. Gas Supply & Vacuum Gauge Unit
② Main System Controller (Electric Panel & Software)
a. Electric Panel & Controller (PLC & Touch Panel)
b. Software : PLC Software & GUI
③ System Frame & Utilities
a. Main System Frame
b. System Utility
장비안내 반도체 박막 증착을 위한 Chemical Vapor Depostion 장비 (Si, Ge 나노구조 성장)
나노구조 성장용 Chemical Vapor Depostion 시스템. Si, Ge, ZnO 등의 나노 구조를 성장하기 위해서 성장물질을 가스 형태로 분사한 후 기판상 화학 반응에 의해서 나노구조 물질의 성장을 목적으로 함

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