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공동활용 연구장비

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증착 시스템

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E-beam Evaporating system

  • 모델명 REP-5004 series
  • 제조사 에스엔텍
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 전자빔증착기

상세정보

구축일자 2010-10-11
납품업체 에스엔텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F2 207
구성및성능 구성및성능
메인 프로세싱 챔버
배큠 로드록 시스템
소프트웨어 앤 유틸리티
▶ Water & Air Distribution unit
- Water (PCW) & Air (CDA) Flow indicator
▶ 19" Control rack inside / Mobile with transport rollers
장비안내 특징
퍼터링 타겟에 Au 또는 니켈 등의 금속 물질을 증착시킬 때 사용되는 필수 장비

특징
1. Evaporating System : 1 Sys.
1.1 Main Processing Chamber
▶ Material : Stainless Steel & Aluminum
▶ Internal Shape : Circular
▶ Internal Dimension : About 450㎜ Dia. 520㎜(H)
▶ Chamber Wall Cooling
▶ Front Door Type Shape
▶ Inner shield cover
▶ Various functional port (ex : gauge vent pumping view port etc)
- View Port
- Gauge Port Vent Port
1.2 Vacuum Pumping Unit
▶ High Vacuum Pump : 1Ea
- Turbo Molecular Pump with Power Supply
- Brand : OSAKA in Japan
- Magnetic Suspension Type
- Pumping Speed : 1100 L/Sec
▶ Oil Free Dry Pump : 1Ea
- Pumping Speed : 27M3/Hour
- Brand : Alcatel in France
1.3 E-Beam Source with Power Supply : 1 Set
1.3.1 Electron Beam Source
▶ Electron Gun
- 4 Pocket of 7cc Crucible
- Source 270。Deflection
- Central Feed through for Crucible Drive and Water Cooling
▶ Electron Gun Power Supply with X-Y Sweep
- Input Power : 220VAC /3Ø 60 Hz 40A
- Maximum Power : 6 KW
- Electro-Pneumatic Drive for Shutter
- High Voltage Power Ele

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