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열 화학 기상 증착 장비

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Thermal CVD system

  • 모델명 NPS 5000
  • 제조사 에스엔텍
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비

상세정보

구축일자 2009-11-20
납품업체 에스엔텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 금호연구관 F2 203
구성및성능 구성및성능
▶ Processing Chamber
- Material: Quartz Tube (Heating Furnace 내부 장착)
- Sliding Door with Sample Tray (Substrate size: 2 inch)
- Body wall cooling
▶ Vaccum pumping unit
- 2 stage type Rotary Vacuum pump + High vacuum pump
- 부속 장비
▶ Heating unit (Furnace & controller)
- 3 zone furnace type
- heating element: Kanthal wire
- Max. temperature: 1500 ℃
- K type thermo-couple
- Programmable Temp. Controller with SCR unit
▶ Gas Supply unit
- Gas line ( Ar, O2, N2, spare, spare)
- Gas pod: 5 MFC line
- Pneumatic Diaphram Gas valve
▶ Main System Controller & Vacuum Gauge
- KF25 Pneumatic Gauge Shut valve
- Baratron Gauge (pressure range: 10 Torr)
▶ System Frame & Utilities
장비안내 특징
본 장비는 열 에너지에 의한 반응 가스 및 물질을 열분해하여 박막을 증착시킬 수 있는 장비로서, nano-wire, nano-tube, nano-rod 등의 1차원 반도체 물질의 합성에 이용된다. 주로 열 에너지를 공급하는 furnace와 연결된 튜브 타입의 챔버가 있고, 이에 반응 가스를 공급해 줌으로서 반응 챔버 내에서는 열 에너지에 의한 반응물의 화학 반응에 의해 1차원 반도체 물질 및 박막을 형성할 수 있다. 또한, 이러한 원리를 통해 주로 광대역 밴드갭을 가지는 산화물 계열(ex. ZnO, SnO2 등)의 1차원 반도체 물질이나 탄소 나노 튜브 등의 나노 구조물의 형성에 이용된다.

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