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마그네트론 스퍼터링 장비

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Magnetron Sputtering System

  • 모델명 MST5000
  • 제조사 에스엔텍
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2009-12-18
납품업체 에스엔텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 금호관 F2 204호실
구성및성능 구성및성능
- Chamber
1. Process chamber : Stainless Steel & Aluminum
2. Magnetron sputtering source (Circular 2inch 3set)
3. DC & RF power source (DC-1EA RF-2EA)
4. Substrate : 4 inch wafer
5. Load-lock chamber : Sample transfer / plasma cleaning unit
- Vacuum
1. Vacuum pump :　Mechanical rotary pump + Turbo Molecular Pump(TMP)
2. Gauge :　Pirani /Ion /Baratron gauge
장비안내 특징
마이크로 또는 나노소자에서 금속 전극 또는 반응 금속 및 Al2O3 TiO2 등의 산화물 증착을 주 용도로 한다. 금속전극은 저항변화 소자에서 사용되며 Pt TiN W등의 금속 증착이 요구 되며 반응 금속으로는 반응성이 큰 Al Sm Ti등이 이용된다. 또한 4inch wafer에서 저항변화 소자의 Active layer로 사용되는 HfO2 TiO2등의 산화물의 증착을 위해 사용되며 Load-lock chamber로 인해 공정 시간이 절약되는 이점이 있다.

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