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대학 자원

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공동활용 연구장비

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마스크 얼라이너

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Mask aligner

  • 모델명 G203550
  • 제조사 (주)신코
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2009-10-28
납품업체 (주)신코
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 광주과학기술원 신소재공학부 신소재공학동 F1 107호실
구성및성능 구성및성능 1. Substrate Size: Up to 4 diameter 2. Mask Size: Up to 5 x 5 3. Exposure Optics: Hg-Lamp 350W UV400 4. Exposure system: Mode: Proximity Soft- Hard- Soft Vacuum- Vacuum contactLight Intensity 5. Alignment Methods: Top Side Alignment (TSA) Accuracy 6. Microscope: M604 Splitfield Revolver Type. objective separation : max. 100㎜ eyepieces: two 10X objectives: two 5X two 10X 7. Power Supply: Constant Intensity Mode (365㎚ and 405㎚ or 436mm) Constant power Mode 8. WEC (Wedge Error Compensation) system
장비안내 특징
리소그라피 공정에 사용되는 마스크와 기판의 패턴을 정렬한 후 노광하여 미세 선폭을 형성하는 데 사용되는 장비임

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