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공동활용 연구장비

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진공스퍼터링 시스템

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Cosputtering System

  • 모델명 KVS-2003L
  • 제조사 코리아바큠테크㈜
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2009-11-20
납품업체 코리아바큠테크㈜
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F5 504호
구성및성능 1 SYS
RF & DC Magnetron Sputtering System KVS-2003L
consists of 1
1 set Process Chamber 2
1 set Loadlock Chamber Unit (R/P BASE) 3
1 set Vacuum Pumping Unit 4
1 set 3“ Substrate Heating Unit 5
3 sets 2" Sputtering Gun Source 6
1 set Vacuum Gauge Controller 7
1 set Gas Supply Unit (Ar,O2,N2) 8
1 set R.F Power Supply 600W 9
2 set D.C Power Supply 1kW 10
1 set Auto Pressure Control Unit 11
1 set Frame & Control Box
장비안내 특징
DC & RF 파워 서플라이를 이용 시편에 물리적 충격을 가해 파편이 떨어져 기판에 증착이 가능함

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