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공동활용 연구장비

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초고진공 컴팩트 스퍼터

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UHV compact co-sputter

  • 모델명 ACS-4000-C3
  • 제조사 Ulvac
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2009-04-07
납품업체 Ulvac
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 환경동 F2 204
구성및성능 구성및성능
총 2개의 RF 건과 DC 건을 가지고 있으며, 각각 TARGET이 세팅이 가능하여 CO-SPUTTERING이 가능하다. Base pressure는 10-8PA이며, sample 크기는 총 4인치 샘플까지 균일한 막 증착이 가능하다.
- Small space : Sputter 1700mm x 900mm Controller 700mm x 900mm
- Auto deposition process by PC
- available for Ultra High Vacuum
- Magnetron LTS cathode Which has been delivered more than 500 sets
- LTS : long throw sputtering
- Substrate rotation and deposition with oblique incidence to substrate make the better uniformity on substrate(uniformity -> 95% in 4 in wafer)
- For easy maintenance, deposition chamber equips maintenance hatch on the top of chamber
- maintenance operation and checking of lifetime of target are available on PC software.
장비안내 특징
Ar 가스를 이용하여, 일정 전압을 cathode에 가하여, 플라즈마를 발생시켜 이를 전계에 의해 가속시켜 금속 및 절연막 target을 때려, 그 물질을 원하는 샘플 위에 얇게 증착 시키는 장비.

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