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공동활용 연구장비

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산화아연 반도체용 유기금속화학증착기

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ZnO Metalorganic Chemical Vapor Deposition System

  • 모델명 ZnO MOCVD
  • 제조사 시스넥스
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 유기금속화학증착장비

상세정보

구축일자 2006-12-22
납품업체 시스넥스
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F9 902호
구성및성능 전체적으로 화학반응을 통해 박막이 성장이 되는 Chamber와 진공도를 유기시켜주는 펌프, 화학반응을 시켜주는 가스 및 가스를 보관하는 가스캐비넷, 기판의 온도를 조절하는 controller 그리고 기판 성장 후 남은 가스를 안전하게 처리하는 Scrubber로 구성되어 있다.
장비안내 화학 반응을 이용하여 기판상에 금속 산화막을 형성하는 박막 형성법. 진공으로 된 통 안에서 가열된 기판에 증기압이 높은 금속의 유기 화합물 증기를 보내어 그 금속의 막을 기판에 성장시킨다. 어떤 조건에서는 화합물 반도체의 결정을 에피택셜 성장(epitaxial growth)시킬 수도 있다. step coverage가 우수하고, 기판이나 결정 표면에 손상이 없다는 장점을 가지고 있고 비교적 증착속도가 빨라서 공정시간을 단축시킬 수 있는 특징이 있다.

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