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리소그래피 시스템

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Lithography system

  • 모델명 Lithography System
  • 제조사 Raith
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2006-12-01
납품업체 Raith
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 신소재공학동 F5 506
구성및성능 구성및성능
Raith lithography system
장비안내 특징
* 전자빔 컨트롤 * nano size pattern
홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography)는 레이져 광원의 간섭효과를 이용하여 기존의 광학리소그래피에서 필요로 하는 마스크와 광학 시스템을 필요로 하지 않으며 넓은 영역에 레이져 파장의 λ/4 또는 그 이상의 크기를 가지는 패턴을 주기적으로 빠르고 쉽게 패터닝 할 수 있는 시스템. He-Cd Laser System(λ=325nm Power=50mW)을 이용함으로써 최대 80 nm의 형상과 주기 160 nm를 가지는 형상을 가지는 패턴을 복잡한 광학리소그래피 과정을 거치지 않고 빠른 시간에 빔 사이즈를 조절하여 원하는 사이즈의 영역에 형성 시킬 수 있음. 레이져 빔의 위상차를 조절하여 각기 원하는 패턴의 크기와 주기를 조절할 수 있어 대면적에서의 주기적인 나노 사이즈 패턴을 쉽고 빠르게 조절하여 형성시킬 수 있을 뿐만 아니라 일반적인 광학리소그래피에 의해 얻기 힘든 나노 사이즈의 나노막대 나노 기둥 나노 점 등의 다양한 형태의 1D2D 또는 3D 패턴을 형성시킬 수 있는 장점을 가지고 있음.

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