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산화막 식각 장비

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Oxide gas phase etcher

  • 모델명 GOE5
  • 제조사 지니텍
  • 장비용도 기타
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 2002-09-12
납품업체 지니텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 삼성환경과학연구동
구성및성능 주요구성 1. process chamber 및 tube의 내산 처리 2. load/lock 구비 3. 4 inch single wafer processing 성 능 1. 식각속도 : 10 mm/hr 2. Anhydrous HF gas 사용 3. 식각물질 : thermal oxide TEOS PSG
장비안내 특징
산화막 식각 장치는 기계적인 동작을 하는 광통신용 optical MEMS 구조물을 제작하는데 필수적인 장비이다. 광통신용 optical MEMS 구조물은 실리콘 산화막 위에 고정되어 있는데 이 optical MEMS 광통신용 소자가 작동하기 위해서는 구조물을 잡고 있는 이 산화막을 제거해야 한다. 이에 본 산화막 식각 장비는 MEMS 구조물의 희생층으로 사용되는 산화막을 제거하는 용도로 사용된다. 또한 반도체 표면의 자연 산화막 제거할 수 있어 기판의 세정 공정에도 사용될 수 있다.

구성및성능
주요구성 1. process chamber 및 tube의 내산 처리 2. load/lock 구비 3. 4 inch single wafer processing 성 능 1. 식각속도 : 10 mm/hr 2. Anhydrous HF gas 사용 3. 식각물질 : thermal oxide TEOS PSG

활용분야
1. MEMS형 광스위치의 미소 반사경 구동을 위한 희생층 식각 2. 반도체 표면의 자연 산화막 제거를 통한 세정 공정

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