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공동활용 연구장비

장비사진

LPCVD/Furnace for 1 stack

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LPCVD/Furnace for 1 stack

  • 모델명 모델명 없음
  • 제조사 아펙스
  • 장비용도 기타
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리분류되지않는반도체장비

상세정보

구축일자 1998-04-22
납품업체 아펙스
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 신소재공학동 506호 광주과학기술원 신소재공학동 F5 506
구성및성능
장비안내 특징
SiH4와 PH3 가스를 이용하여 P-doped poly-Si를 증착한다. 이는 MOSFET의 gate electrode로써 활용한다. 활용분야
Gate electrode of MOSFET using poly-Si / Annealing and NItirdation in D2O or N2O ambient

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