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공동활용 연구장비

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유도결합플라즈마 이온반응식각 장비

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Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

  • 모델명 JVICP-6ATL
  • 제조사 제이백
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 2024-11-30
납품업체 제이백
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 산학협력공학관 205호 전남대학교 F2층 205호
구성및성능 1) 공정 챔버 모듈 : 1대ICP Plasma sourceChamber lid can be opened and closed for maintenanceView Port : Glass TypeChamber Treatment : E.P grade(electro polished)
2) substrate 모듈 : 1대Substrate Size : 6inch wafer Additional one wafer change kit to load 4 inch wafer (6inch Base)Clamping : Mechanical or Electro Static Chuck for high temperatureWafer temp control : He cooling (with Automatic Pressure Controller)Lower elec
3) 공정 챔버 진공펌프모듈
- 로드락 챔버 진공펌프모듈 : 1대Direct Drive Rotary Pump　：　GHP240K (290 L/min) Gate Valve Port　：　Rectangular TypeRoughing Valve　:　Bellows Valve Angle Type Leak(vent) Valve　:　N2 Purge(Diaphragm Valve)Vacuum Tubing　:　All Stainless Steel - EP Grade
- 공정 챔버 진공펌프모듈 : 1대High Vacuum Pump : Turbo-Molecular PumpDry Pump (or Direct Drive Rotary Pump)Main Valve　:　Gate typeRoughing Valve　:　Bellows Valve Angle Type F-line Valve　:　Bellows Valve Angle Type Leak(vent) Valve　：　N2 Purge(Diaphragm Valve)Vacuum Tubing　：　All Stainless Steel - EP Grade
4) RF 전원공급장치 : 1대ICP : More than 1000W＊Matching Network BoxBias : More than 600W＊Matching Network Box
5) 가스 공급 모듈 : 1대Process Mass Flow ControllerVolume : Max 100sccm *Metal seal type for Toxic gas（６ea)Metering Valve : Purge N2Gas injection Valve Set：Diaphragm Valve / EP gradeGas Mixing Box：Min 8-Channel Gas Line ConnectionFitting Type :　All - VCR typeMFC Readout：Min 8-Channel
6) 시스템 제어 모듈 : 1대Automatic process controllerLCD monitor(preferred including touch screen)
장비안내 ○ 본 장비는 연구개발 및 생산을 목적으로 하는 유도결합 플라즈마 반응성 이온 식각 장비로 GaAs, GaP, InP, GaInP, AlG, InP, SiO2 등과 같은 다양한 화합물 반도체 재료의 광전소자로의 활용을 위한 선택적 식각을 할 수 있다.
○ 나노-마이크로 소자는 화합물 반도체 표면에 형성되며 이 구조는 고효율의 LED, 태양전지, 포토다이오드 등을 제작하기 위한 다차원 나노 구조 제작에 필수적이며, 이를 통해 나노-마이크로 구조가 도입된 고효율 소자 제작에 대한 전문인력 양성에 기여할 수 있다.
○ Load Lock System과 Turbo-Molecular Pump를 적용하여 빠른 고진공을 형성하여 효율적인 Process Time을 제공하고 정확한 디지털 가스 제어와 APC(Auto Pressure Controller)로 정확한 진공압력 조정으로 정확하고 균일성 높은 결과물을 만들어 낸다.

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