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공동활용 연구장비

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Wet Station(웨이퍼 세정장비)(2)

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Wet station system

  • 모델명 PW-100
  • 제조사 프로윈
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 2024-11-29
납품업체 프로윈
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 산학협력공학관 지하 1층 전남대학교 B1층 호
구성및성능 (1) Ultrasonic bath : 2식
- Ultrasonic bath 2개 또는 이상 성능
- Ultrasonic 초음파 출력 600W 또는 이상 성능
- Ultrasonic 초음파 주파수 40khz 또는 이상 성능
- Ultrasonic controller 분리형 또는 이상 성능
- Ultrasonic 온도 30∼105도 온도 조절 또는 이상 성능
(2) Rinse bath : 1식
- Rinse bath 사이즈 200×150×200 또는 이상 성능
(3) N2 Gun : 1식
(4) D.I Gun : 1식
(5) Goose neck : 1식
◯ 성능 및 규격
(1) 크기 : 1,200(W)×900(D)×1900(H)
(2) 외부 : 내약품성 우수한 PVC 플레이트
(3) 내부 작업 공간
- 재질 : 내약품성 우수한 PVC 플레이트 또는 이상 성능
- 상판 펀칭 플레이트 (PVC 재질) 또는 이상 성능
- Ultrasonic bath 2개 또는 이상 성능
- Ultrasonic 초음파 출력 600W 또는 이상 성능
- Ultrasonic 초음파 주파수 40khz 또는 이상 성능
- Ultrasonic controller 분리형 또는 이상 성능
- Ultrasonic 온도 30∼105도 온도 조절 또는 이상 성능
- Rinse bath 사이즈 200×150×200 또는 이상 성능
장비안내 본 장비는 반도체 습식 공정에 사용되는 웨이퍼 세정, 습식, 식각 및 포토레지스트 제거 공정 등 반도체 공정의 처음부터 마지막까지 수행되며 각 공정에 사용되는 다양한 종류의 화학 용액으로부터 오염과 혼합을 방지할 수 있는 재질의 장비가 요구된다.

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