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공동활용 연구장비

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반도체회로 및 소자설계용 프로브스테이션

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Probe Station for Semiconductor Circuit and Device Design

  • 모델명 MB13M
  • 제조사 엠에스테크
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 프로브스테이션

상세정보

구축일자 2024-10-02
납품업체 엠에스테크
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 공과대학6호관 812호 전남대학교 F8층 812호
구성및성능 1) Probe station main body unit (1 세트)
- Main Dimension : 800(w) x 750(d) x 480(h)mm
- Chuck Dimension : 4" ambient coaxial chuck 크기 동등 성능 이상
- Chuck Motion : Dual Moving type: Long X/y stage 100mm x 100mm, Resolution : 10um 동등 성능 이상
- Rectangular Plate : 800(w) x 750(d) x 15(t)mm
- Micro scope Hangger Arm & Bong type
- Monitor Hagger Plate & Bong
2) Microscope (1 세트)
- CCD Zoom Camera
- Object Lens : 5x (Zoom : 1 ~ 5x), 동등 성능 이상
- Total Magnification : ~300x (Max)
- Dual Z Focus STP Knob 포함
- Fiber Ring Guide & Volume Level Control 포함
3) CCD Camera Precision (1 세트)- 2.1 M Pixel, CCD C-mount 1/3’’, 15’’ 이상 모니터 Dual port 동등 성능 이상
4) RF_High positioner body unit / RF_Positioner, holder (2가지종류 각 2개, 총 4개, 4 port 측정 가능)
- 공통: Manipulator LM lead guide, Fine Manual Manual knob, RF positioner holder는 Theta Micro Level Control 3,9 & 6,12Hr (각 2세트, 총 4세트)
- 1번 타입, 아래 조건 동등 성능 이상X Stage Travel : 43mm, Resolution : 1um
Y/z Stage Travel : 30mm, Resolution : 1um
Gonia X/y Stage Fine Control, Extender elevator Level Adjust Type
- 2번 타입, 아래 조건 동등 성능 이상X/y/z Travel : 25mm, Resolution : 1um
Vacuum Base Block Type
Theta Fine Control, 6.12Hr, Motion Scew Type
5) Ceramic Gold Back gate (1 개)
- 40mm X 40mm X 0.5(t)
6) Vacuum Pump (1 개)- 620ml/sec, Low Sound, Anti Vibration Housing Cover
7) Vibration Table_Rack type (1 개)
- Dimension : 1,060(w) x 1,245(d) x 1,650(h)mm 동등 성능 이상
8) Air Compressor (저소음) (1 개)
- Air Compressor 6" 동등 성능 이상
9) 성능 및 규격
- 다양한 초고주파 주파수 대역 측정 가능 (DC – 110 GHz)
- RF Probe Positioner 4개를 활용한 다양한 파라미터 (S-parameter, Z-parameter, Y-paremeter 등) 측정
- 1포트 ~ 4포트까지 측정 가능
- 정확한 프로브 팁 컨택을 위한 고배율 현미경 포함
- 반도체 칩 및 프로브 팁 고장을 막는 진공 환경 기능 포함
- 정확한 프로브 팁 컨택 및 실습 교육 시연을 위한 Camera Precision 포함 (육안 식별 가능 수준 이상)
- 정확한 측정을 위한 매우 작은 양의 누설 전류 성능 포함
장비안내 ● 반도체 소자의 전기적 특성평가 및 분석이 가능함.
● 누설 전류 Leakage Current (~500 fA Less than) 이하여야함.
● Motion Control Resolution 3 um 이하여야함.
● 장비 Sample Top size 가 4 inch 이상 이어야함.

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