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공동활용 연구장비

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포토레지스트노광기(마스크얼라이너)(2)

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Mask Aligner

  • 모델명 MDA-400S
  • 제조사 마이다스시스템(주)
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2024-11-30
납품업체 마이다스시스템(주)
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 산학협력공학관 지하 전남대학교 B1층
구성및성능 1) 노광모듈 (Light source module)
- Lamp type : 210W 또는 동등성능이상
- Wavelength : 350nm to 450nm 이내 또는 동등성능이상
- Max. beam size : 6in. x 6in. 또는 동등성능이상
- 365nm Intensity : 15 mW/cm2 또는 동등성능이상
- Beam uniformity : ±3% (4in.) 이하
- Band pass filter 장착할 수 있는 filter slot 포함

2) 현미경 모듈(Microscope)
- Dual CCD zoom microscope
- Manual moving stage : Dual X, Y, Z axis 또는 동등성능이상
- Move range : Y Axis ± 20 mm 또는 동등성능이상

3) 스테이지 & 컨트롤러 모듈(Stage and controller module)
- Stage movement : X, Y : 8 mm 또는 동등성능이상
- Stage movement : Theta : ±4° 이내
- Z Motion travel : 10 mm 또는 동등성능이상
- Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact
- Alignment accuracy : ±5um 이하
- 레벨링 오차 보완 기능(Wedge error compensation)
장비안내 ○ 6인치 Photo Resist와 Mask를 이용하여 마이크로 패턴을 형성.
○ 현미경을 이용하여 기판의 기존 패턴과 신규 형성 패턴의 얼라인 가능
○ 노광시간 및 광 에너지 조절을 통한 감광액 형상조절 가능

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