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공동활용 연구장비

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열 화학 기상 증착기

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Thermal Chemical Vapor Deposition

  • 모델명 TCVD50
  • 제조사 싸이엔텍
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 열증착기

상세정보

구축일자 2021-09-02
납품업체 싸이엔텍
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교 산학협력공학관 B1층
구성및성능 ◯ Size(mm) : 1750(W)*1300(H)*750(D)
◯ 온도(℃) : Ø50*300: 2furnace deposition heater (Max. temp: 1050℃)
◯ Temp. measurement : K-type thermaocouple (0~1,250℃)
◯ Base pressure: ATM ~ less than 10-3(Torr)
◯ Operating pressure 10~5*10-3(Torr)
◯ Capacitance manometer :10Torr
◯ Gas channel 4channel
◯ Moving frame
◯ Gas supply unit
- Mass flow controller (Ar, CH4, H2)
: ±1% of setpoint for > 10 to 100%F.S, : ±0.2% odf F.S for 2~10% F.S
◯ Quartz tube (ф50*1200mm)
◯ Furnace & controller 1
- Heating zone : Ø50mm*300mm
- Operation temp. : 1350 ℃
- Temperature controller : Yokogawa UP-35A
장비안내 - 에너지 재료등의 열처리, 표면처리를 위한 분위기 열처리로
- 전기가 고온발열체에 전달되어 필요한 온도로 승온시키고 PID를 이용해 승온속도, 고정온도, 유지시간, 냉각속도 등을 조절하여 Graphene, CNT 등을 고온으로 합성

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