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공동활용 연구장비

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노광기

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Mask aligner

  • 모델명 COOLUV-150
  • 제조사 재성엔지니어링
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2022-01-25
납품업체 재성엔지니어링
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교 산학협력공학관 B1층
구성및성능 ○ Light source module
- Lamp type : 210W
- Wavelength : 350nm to 450nm 이내
- Max. beam size : 6in. x 6in.
- 365nm Intensity : 15 mW/cm2
- Beam uniformity : ±3% (4in.) 이하
○ Microscope
- Dual CCD zoom microscope
- Manual moving stage : Dual X, Y, Z axis
- Move range : Y Axis ± 20 mm
○ Stage and controller module
- Stage movement : X, Y : 8 mm
- Stage movement : Theta : ±4° 이내
- Z Motion travel : 10 mm
- Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact
- Alignment accuracy : ±5um 이하
○ Resolution
- Vacuum Contact : 2um 이하 @PR Thickness 1um
- Hard (Pressure) Contact : 3um 이하
- Soft contact : 5um 이하
장비안내 Photo Resist와 Mask를 이용하여 마이크로 패턴을 형성
6인치 Photo Resist와 Mask를 이용하여 마이크로 패턴을 형성.
현미경을 이용하여 기판의 기존 패턴과 신규 형성 패턴의 얼라인 가능

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