Research Hub

대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

공동활용 연구장비

20211228000000260413.jpg

웨이퍼 식각기

상담·문의하기

ICP-RIE

  • 모델명 JVAC-6ATL
  • 제조사 제이벡
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 2021-12-28
납품업체 제이벡
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교 산학협력공학관 B1층
구성및성능 1) 공정 챔버모듈
- View 포트, 게이지 포트, 가스주입 포트, 기판수송 포트
- Chamber treatment : electro polished grade
2) Substrate 모듈
- Substrate chuck size : 6 inch
- Lower electrode temp control system : pressure controller or cooling jacket
3) 공정 챔버 진공펌프모듈
- Rotary pump speed : ≥ 1100 L/min
- High vacuum gauge : ≤ 5 X 10^-6 torr
4) RF 전원 공급장치
- ICP plasma source power supply module : 1 KW
- Chucking bias source power supply module : 600 W
5) 가스 공급 모듈
- processing 가스 : SF6, CF4, Ar, N2, 포함한 추가 가스
- Purge & Vent 가스 : N2
- MFC read out : 4 chanel
- 가스라인 피팅 타입 : VCR
- 가스주입 밸브 처리 등급 : electro polished grade
6) 시스템 제어 모듈
- 시스템 제어방식 : manual
- 컨트롤패널 : 챔버 상태 표시, RF 전원제어 표시, 진공압력 및 자동압력 표시 가능
- 실시간 공정데이터 로깅 가능
- 전원 공급패널 : on/off 스위치, 비상전원스위치, 차단기 가능
장비안내 본 장비는 연구개발 및 생산을 목적으로 하는 유도결합 프라즈마 반응성 이온 식각 장비로 GaAs, GaP, InP, GaInP, AlGaInP, SiO2 등과 같은 다양한 화합물 반도체 재료의 광전소자로의 활용을 위한 선택적 식각을 할 수 있음.

목록보기