Research Hub

대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

공동활용 연구장비

20181128000000219931.jpg

급속열처리장치

상담·문의하기

Rapid thermal annealing system

  • 모델명 모델명 없음
  • 제조사 코리아바큠테크㈜
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 열유체장비 > 전기/소결로

상세정보

구축일자 2005-10-05
납품업체 코리아바큠테크㈜
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교 산학협력공학관 B1층
구성및성능 1. 적용가능 기판크기 : 4inch wafer (Max.)
2. 적용가능 기판 : Al2O3 Si 등
3. 장비 구성
- Process chamber
- Lamp unit
- Suscepter (wafer carrier) material
- Process Gas Handling and Control
장비안내 실리콘 또는 화합물 반도체 및 각종 산화물 금속 박막의 급속 열처리 장치로서 고농도 도핑에 대한 확산을 극도로 억제하기 위한 초단시간 급속 가열 장비. 짧은 시간에 고온으로 온도를 올렸다 내릴 수 있게 하는 장치로 통상 반도체와 금속막사이의 저항을 줄이기 위한 Anealing 공정에 활용.

목록보기