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공동활용 연구장비

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급속 황화 열처리 시스템

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Rapid thermal System

  • 모델명 모델명없음
  • 제조사 브이티에스
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 유기금속화학증착장비

상세정보

구축일자 2015-01-23
납품업체 브이티에스
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) (용봉동) 전남대학교 용봉캠퍼스 공과대학 6호관 F2 222호
구성및성능 - Turbo molecul ar pump 1set : Pumping speed : 600L/s Water cooling type 선정
- Rotary pump 1set : Pumping speed : 400L/s [60Hz] - Throttle valve를 설치하여 진공도 유지 및 컨트롤 - Vacuum Gauge units : Pirani gauge, Ion gauge, Gauge controller 고진공 압력 컨트롤 가능
- Gas supply units : N2, H2S MFC를 이용하여 소량의 가스 컨트롤이 가능하며 최대 1000 sccm 유량 제어가능.
- Heating system
1) Substrate : 100 x 100 mm 의 크기를 선정하여 대면적 열처리 가능.
2) Heater : Halogen lamp heater를 선정, 최대 1000℃까지 안정성을 갖도록 선정 3) 열처리시 허용 오차 온도는 ± 2℃로 제어, 상하 균일한 열처리를 위해 Substrate lift module 선정
장비안내 고효율, 재현성, 대면적 CZTS 태양전지를 제작하기 위해 온도, 가스유량, 압력 등의 정밀한 컨트롤이 가능하며 진공상태를 유지 가능한 대명적 열처리가 가능한 RTA(Rapid thermal process) system

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