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공동활용 연구장비

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원자층 증착 장비

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ALD SYSTEM

  • 모델명 Lucida D100
  • 제조사 (주)엔씨디
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비

상세정보

구축일자 2014-01-20
납품업체 (주)엔씨디
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) (용봉동) 전남대학교 용봉캠퍼스 산학협력선도대학 B1층 B001
구성및성능 기존의 복잡했던 Gas/Source delivery system을 단순화시켜 CUBE형태의 Block내부에 유로들을 형성 Pulse 및 purge cycle시 가장 짧은 경로를 통해 carrier gas와 source를 챔버까지 유입시킴으로써 공정시간을 단축시킬 수 있고 기존의 길고 복잡한 가스라인 내부의 오염 시 모두 교체해야만 했던 번거로움과 비용적 부담을 없애며 오히려 손쉬운 세정작업으로 유지보수와 획일적인 온도관리를 통해 ALD공정변수를 줄임으로써 공정의 재현성을 확보한다. 아울러 소프트웨어적으로 ALD공정에 가장 적합한 Recipe환경을 구축하고 있으며 누구나 쉽고 공정변수를 입력하고 수정하며 무한 반복할 수 있도록 GUI구성이 되어있다.
장비안내 Lucida D100 ALD시스템은 High-K 유전막 또는 투명전도막이나 다양한 용도의 산화물박막 제작을 위한 증착장비로서 다양한 반응가스와 Precursor를 이용하여 Si 기판 또는 유리나 기타 소재의 기판위에 원자층 단위로 박막을 증착하는 장비이며 thermal방식의 기판히터만으로 열에너지를 가하여 다양한 oxide형성이 가능하고 원자층 증착박막 특유의 step coverage가 탁월하여 다양한 소자 구조 하에서 기판과 산화물과의 계면에서 상호작용에 대한 연구가 가능하고 transistor뿐 아니라 태양과 소자 및 display등의 소자 제작에 최적의 물질과 공정조건을 수립하는 연구를 수행할 수 있는 장비이다.

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