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공동활용 연구장비

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스퍼터 시스템

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sputter system

  • 모델명 626B01TBE
  • 제조사 (주)울텍
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2011-08-23
납품업체 (주)울텍
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) 77 전남대학교 용봉캠퍼스 공과대학1호관 F1 102
구성및성능 마이크로 나노소자 제작에 필요한 균일하고 일정한 박막을 제작하기 위함
- Process Chamber (Electro-polished Stainless steel)
- Substrate heater/Cooler (Rotation control by motor Up to 4 inch)
- Sputter gun (4inch 3ea Include Individual Shutter)
- DC power supply (2KW 800V 2.5A Plasma compatible)
- Vacuum pump (TMP(400L/sec) Ultimate pressure: 7x10^7 Torr)
- Pressure gauge
- Vacuum pressure control
- Vacuum valve
- Vacuum line
- Process gases & flow control
- Gas valves & gas line
- Loadlock chamber
- Heater temperature control unit

마이크로 나노소자 제작에 필요한 균일하고 일정한 박막을 제작하기 위해 필요함
장비안내

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