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공동활용 연구장비

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노광기

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Photolithography

  • 모델명 MDA-005
  • 제조사 마이다스시스템(주)
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2011-05-25
납품업체 마이다스시스템(주)
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) 77 전남대학교 용봉캠퍼스 산학협력공학관 B1층 B001
구성및성능 - Manual PLC Touch Control system
- Sample size : Max4inchwafer
- Mask size : 5”x5”mask
- UV Exposure Light source with 350Watt Power Supply
- Dual CCD zoom microscope and LCD ( 19 inch ) monitor
Alignment Tooling Module with XYZ and Theta motion
- Wedge Error Compensation (levelingplatetype)
- Dimension : 1000 (W) x 950 (D) x 1750 (H) mm
- Weight : 250 Kg
- Warranty : 1 year
장비안내 웨이퍼 위에 감광제를 도포하고 Photo mask에 그려진 회로의 패턴을 웨이퍼 위에 옮기고 하기 위한 장치이다. 감광제 도포를 하고 현상을 하기 위해 꼭 필요한 것으로 광소재 및 LED 제조 및 실험실습에 필수적인 장치이다.

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