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공동활용 연구장비

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고간섭성 협대역 엑시머레이저

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High Coherence Narrow Linewidth Excimer Laser

  • 모델명 ExciStar XS 200 / 500
  • 제조사 Coherent
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 레이저발생장비

상세정보

구축일자 2011-02-18
납품업체 Coherent
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) 77 전남대학교 용봉캠퍼스 자연대학4호관 F3층 316
구성및성능 1. Temperature Range: for max repetition rate 400
2. Relative Humidity: < 85 % non-condensing
3. premix Gas: operating pressure (6500 ~ 8000 hPa)
4. Flush Gas (Helium): operating pressure (1200~1800 hPa)
5. Purge Gas (Nitrogen): operating pressure (2 bar abs.)
장비안내 1. ArF excimer laser system. 193 nm 파장을 가지는 레이저 펄스를 발진하는 시스템
2. 공진기와 방전을 일으켜 빛을 유도하는 스파크 부 등으로 구성
3. 5 mJ 이상의 평균 펄스에너지를 낼 수 있어 바이오 물질의 식각뿐만 아니라 심자외선 리소그래피 노광시스템의 광원으로 활용 가능
4. 파장이 193 nm인 레이저 펄스를 집속하여 이동시킴으로써 바이오 물질 등 연성의 물질을 직접적으로 가공 가능
5. 연구실 수준에서의 미세 패턴 형성을 위한 리소그래피 광원으로 활용

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