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공동활용 연구장비

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플라즈마 화학 기상 증착기

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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System

  • 모델명 VSPECVD-400A
  • 제조사 클라이오텍
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 달리분류되지않는광파발생/측정장비

상세정보

구축일자 2002-08-27
납품업체 클라이오텍
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) (용봉동) 전남대학교 용봉캠퍼스 공과대학 5호관(B) F1층 124호
구성및성능 * 주요구성 및 성능
1. process chamber
2. vacuum pumping assembly
3. substrate holder assembly
4. plasma source generator
5. electrical controller
6. PECVD frame assembly
장비안내 * 원리및 특징
진공상태에서 각종 반응성가스를 혼합 주입한 후 플라즈마를 이용하여 활성화시켜 기판위에 원하는 화학반응을 일으켜 박막을 형성시키는 증착법으로반도체소자 및 광소자의 보호막이나 절연막등에 응용할 수 있다.

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