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GaN Etcher(ICP-RIE)

  • 모델명 Minilock-Phantom III
  • 제조사 Trion Technology
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 2008-02-28
납품업체 Trion Technology
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교 산학협력공학관 B1층 B001
구성및성능 1. Reactor with 300mm bottom electrode
2. Vacuum load-lock-includes load-lock
3. RIE 600 watt ICP source 1250Watt
4. Five 100 sccm MFCs
5. Wafer carrier plate for 6 x 2 inch
6. Osaka Turbo molecular pump dry pump
장비안내 유도결합 플라즈마(ICP) 소스를 사용하여 고밀도 이온을 생성시키고 substrate에 bias를 인가하여 metal 및 PR 식각가능 장치.
ESC에 인가하는 Bias RF도 매우 미세하게 조절할 수 있음.
현재는 LED chip 공정의 GaN dry etch공정에 사용.

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