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공동활용 연구장비

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진공증착기

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GaN MOCVD

  • 모델명 CS15276
  • 제조사 Aixtron
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 유기금속화학증착장비

상세정보

구축일자 2008-04-14
납품업체 Aixtron
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교 산학협력공학관 B1층 B001
구성및성능 구성및성능
1) Growth Chamber : 19 × 2" wafer
2) Heater system : Thermal resistive
3) Wafer rotation system : Max 150rpm
4) Glove box
5) Load-lock
6) Laser interferometer
7) MO source supply system : 7 MO source lines
8) Hydride supply system : SilaneNH3 H2N2
9) Electronic and control system
10)Exhaust system
11)Gas purifier: NH3 H2N2
12)Spare part
장비안내 특징
1) This equipment should be designed for growing of GaN epitaxial layers.
2) Contractor should provide training for operation of this equipment on manufacturer or customer site.
3) Contractor should provide the sample demonstration on customer site.

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