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Co-deposition sputtering system

  • 모델명 KVS-3006LA
  • 제조사 코리아바큠테크㈜
  • 장비용도 교육
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2008-05-09
납품업체 코리아바큠테크㈜
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 전남대학교　 공과대학 6호관 B1층 b007
구성및성능 구성은 크게 컨트롤러, 챔버 본체, 배기장치로 되어있다. 컨트롤러는 컴퓨터와 회로 장치로 구성되
어 있고 전반적인 장비를 컨트롤하고, 챔보 본체는 메인챔버와 로트락 챔버 그리 고 2개의 RF 건, 2개의 DC 건으로 구
성되어 있다. 배기장치는 1개의 아이온 펌프와 2개의 터보펌프 그리고 2개의 로터리 펌프로 구성되어 있으며, 성능
은 4인치 타겟 4개를 동시에 스퍼터링하여 6인치 기판의 유니퍼머티가 보장된다.
장비안내 챔버 내에 반응성 가스를 주입시킨 후 플리즈마를 발생시켜, 이 플라즈마가 타겟과 반응하 여 박막
을 증착시키는 장
비로 RF와 DC 방식을 동시에 증착시킬 수 있다는 장점을 갖고 있음.

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