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공동활용 연구장비

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진공증착기

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Sputtering System

  • 모델명 개발장비
  • 제조사 월드진공
  • 장비용도 기타
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2006-12-31
납품업체 월드진공
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) (용봉동) 전남대학교 용봉캠퍼스 공과대학 6호관 F3 326호
구성및성능 Target Size : 3 inch Gun : 2개 기판크기 : 최대 4inch까지 증착이 가능하고, 2inch 내에서 uniformity 유지 DC 전력은 최소 1KW 이상 공급 가
능 Turbo molecular pump를 사용하여 10E-6 Torr이하를 유지 진공에서 가열시 최소 400C 까지 상승 Ar, O2, N2 Gas를 사용
장비안내 특징
금속박막과 금속산화물의 박막증착

구성및성능
Target Size : 3 inch Gun : 2개 기판크기 : 최대 4inch까지 증착이 가능하고, 2inch 내에서 uniformity 유지 DC 전력은 최소 1KW 이상 공급 가
능 Turbo molecular pump를 사용하여 10E-6 Torr이하를 유지 진공에서 가열시 최소 400C 까지 상승 Ar, O2, N2 Gas를 사용

활용분야
금속박막과 금속산화물의 박막증착

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