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Reactive Ion Etching system

  • 모델명 이온반응 부식 시스템
  • 제조사 Technics Inc
  • 장비용도 기타
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 1988-12-01
납품업체 Technics Inc
위치 광주광역시 북구 용봉로 77 (용봉동) 물리학과 전남대학교 물리학과
구성및성능 - 300W RF 13.5 MHW 출력 - CF4,CCl2CHF3 plasma - O2 plasma - Ar plasma
장비안내 - 고주파로 100mtorr 정도기압하의 식각용 기체를 플라즈마화시켜 시료표면을 수미크론 깊이로 깍아낸다.