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공동활용 연구장비

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다중 2차원 소재 동시 합성 화학기상증착 시스템

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Dual CVD

  • 모델명 다중 2차원 소재 동시 합성 화학기상증착 시스템
  • 제조사 아텍시스템
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 유기금속화학증착장비

상세정보

구축일자 2024-09-11
납품업체 아텍시스템
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원　 C동 F3층 303호
구성및성능 CVD 1: 가스(4종)+캐니스터(2종) 혼합 소스 시스템
CVD 2: 가스(2종)+캐니스터(4종) 혼합 소스 시스템
공통: 플라즈마 (ICP) 제너레이터 ~50W/개별 열 조절 가능한 퍼니스(~1000C)
규격: 1본체 2챔버 2단 구조: (2,600(W)*1,700mm(D) 이내
장비안내 그래핀, 전이금속 칼코제나이드, 육방정계 질화붕소 등의 2차원 나노 박막 소재 성장 설비
플라즈마 및 열 성장 기능 기반 설비

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