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공동활용 연구장비

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마스크 얼라이너 & 노광 시스템

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Mask aligner & Exposure system

  • 모델명 MDA-400M
  • 제조사 마이다스시스템(주)
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2021-12-16
납품업체 마이다스시스템(주)
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원　 다산빌딩 B1층 B02호
구성및성능 ○ System specification
A. Light source module
- Lamp type : Mercury Short arc lamp (350W)
- Wavelength : 350nm to 450nm(Standard)
- 365nm Beam Intensity : > max 25 mW/cm2
- Max. beam size : 4.25 inch x 4.25 inch
- Beam Uniformity : ≤±3%
B. Microscope
- Dual CCD zoom microscope
- Manual moving stage : Dual X, Y, Z axis
- Objective spacing : 60 ~ 100mm
- Move range : Y Axis ± 20 mm
- Magnification : 85x ~540x
- Working distance : 86 mm / 32 mm
C. Stage and controller module
- Exposure Timer : 0.1 sec to 999.9 Hour
- Stage movement : X,Y,Z and Theta
X, Y : 10 mm,
Theta : About ±4°
Z Motion travel : 10 mm
- Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact
Vacuum & Hard contact (Force controllable)
- Alignment accuracy : <±1.0 micron
- Vacuum / Pneumatic Controls :
Substrate, Mask, Chuck lock & Contact
D. Resolution
- Vacuum Contact : 1um < Thin PR(Thickness1um)
@ Full size Si Wafer>
- Hard (Pressure) Contact : 2um
- Soft contact : 3um
- 20um Proximity : 5um
E. Utilities requirement
- Electric power : 220VAC / 15A / Single Phase with Ground
- Nitrogen : >40 psi (3㎏/㎠ ), 6 mm Tube(PU)
- CDA : >85.5 psi (Over 6 ㎏/㎠) , 6mm Tube (PU)
- Vacuum : < -200 mbar ( Vacuum Pump Included )
- Exhaust : No Required
장비안내 - 장비는 Photo-lithography 공정에 사용되는 장비로서 패턴이 그려진 포토마스크와 기판을 정확하게 위치 정렬하는 기능을 가진 노광 장비임.
- 감광제를 도포한 웨이퍼에 노광 시 마스크에 그려진 패턴을 형상화 함.

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