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공동활용 연구장비

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Mask Aligner

  • 모델명 M150S
  • 제조사 프로윈
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2022-08-31
납품업체 프로윈
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 광주과학기술원 전기전자컴퓨터공학동 F1층 108호
구성및성능 1. Substrate Size
Piece∼6" wafer

2. Substrate Thickness
up to 10mm

3. Mask Size/Mask Holder
Mask Holder for 7”x7” mask plates with opening of 6”X 6”

4. Mask Thickness
up to 2.3mm

5. UV Beam Size
6.25" × 6.25"

6. Chuck Motion
X,Y & θ Axis Manual
Z Axis Motorized

7. Top Side Alignment Microscope
[1] Micro Scope . Objective spacing ~ 150mm
[2] Should be concurrently able to show image in real time on screen using CCD camera.
Magnification : 80∼900X (Monitor 기준)
[3] Manual Sliding rail ; X: ± 100 mm, Y: ± 30 mm
[4] Manual ; Z : ± 30 mm

8. Alignment stage
[1]X,Y and θ motion ; Manual / Semi-auto
[2]Z motion ; Motorized (Auto)
[3]X=Y ±5mm using micrometer screw or more
[4]Z= ±10mm
[5]θ = ±5° or higher
[6]Chuck resolution; X, Y: 0.1 μm, Theta: 4 x 10-5°
[7]Mechanical accuracy: <±0.5㎛

9. Alignment Accuracy
<±0.5㎛

10. UV Exposure system
[1] Lamp Housing up to 350 W
[2] Hg > 350W lamp
[3] Suitable Optics for 350nm and 450 nm wavelength.
[4] Parallel light with ±3% uniformity or better on wafer up to 150mm dia.

11. Printing Resolution
[1] Vacuum Contact 1.0um ( Thin PR@Si Wafer )
[2] Hard Contact 2.0um
[3] Soft Contact 3.0um
[4] Proximity Contact 5.0um
장비안내 ○ 반도체 전자소자 (트랜지스터)의 성능은 소자의 크기가 작을수록 속도의 개선의 측면에서 향상되며, 동시에 집적도를 높이기 위해서 패턴의 크기를 적절히 줄이고 정확히 하여야 한다. 본 장비는 자동 마스트 얼라이너로서, 트랜지스터 등의 반도체 소자의 미세화를 위한 포토레지스터 노광공정을 자동화하는 핵심 장비이다.
○ 본 장비는 제안된 연구과제에서 제작될 초저전력 시냅틱 박막 소자의 속도와 집적도를 향상 시키고 마스크 정렬 및 노광공정 자동화를 통해 해당 공정의 신뢰성과 재현성을 확보하기 위한 핵심적인 역할을 하게 된다.

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