Research Hub

대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

공동활용 연구장비

20230103000000269565.jpg

레이저 리쏘그래피 시스템

상담·문의하기

Laser lithography system

  • 모델명 ML3
  • 제조사 Durham Magneto Optics Ltd.
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2022-12-27
납품업체 Durham Magneto Optics Ltd.
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동 1) 광주과학기술원 지스트대학C동 F3층 306호
구성및성능 Exposure resolution = 1.0 μm
Surface tracking autofocus system
Greyscale lithography
Exposure wavelength = 405 nm
Maximum substrate size: 155 x 155 x 7 mm3
Maximum writing area: 149 x 149 mm2
Alignment microscope objectives = x10
Maximum writing speed = 50 mm2/minute
Overlay alignment accuracy = ±2 μm
Minimum addressable grid = 200 nm
Motion stage minimum XY step size = 15 nm
XY interferometer resolution = 15 nm
Mask design software = Open source Klayout
장비안내 ○ 레이저를 이용한 리쏘그래피 장비로서, 대면적(~ 225 cm2) 기판에 1 마이크로미터의 최소 선폭을 구현함으로써, 초전도 공진기를 제작하여 최종적으로 위상 초전도 큐빗 소자를 제작하기 위한 용도로 사용될 예정임.

목록보기