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대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

공동활용 연구장비

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전자빔 리소그래피

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E-Beam Lithography

  • 모델명 SU5000
  • 제조사 Hitachi
  • 장비용도 계측
  • 장비구분 광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

상세정보

구축일자 2022-12-26
납품업체 Hitachi
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) - - 정보통신공학부 A동 F1층 110 호
구성및성능 분해능 :
1) 가속전압 30kV, 1.2nm 이하 (이차전자)
2) 가속전압 1kV, 2.0nm 이하 (이차전자, 감속모드)

전자 광학계 :
1) 전자총 : ZrO/W 쇼트키 전계방사형 전자원
2) 프로브 전류 : 최대 200nA 이상
3) 가속전압 : 0.5 ~ 30kV 이상
4) 대물렌즈 조리개 :
- 5단계 이상의 가변형 조리개
- 오염 방지를 위한 가열 시스템 탑재
- 조리개 보정용 위치 센서 탑재
5) 비점수차 보정 코링 : 8방향 전자계 시스템 (X, Y)
6) 전자 빔 이미지 이동 : ±50um 이상 (작동거리=15mm 기준)
장비안내 본 장비는 전자빔 감광제를 도포한 시료 면에 전자빔을 조사하여 감광제를 구성하는 고분자를 결합 또는 절단함으로써 시료면 상에 패턴을 형성하는 패터닝 장비로 나노미터 수준의 미세패턴 제작 시 활용한다. 주사전자현미경과 연동하여 전자빔을 제어하여 패터닝 작업이 가능하며, 다중 리소그래피 작업이 가능하다.

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