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공동활용 연구장비

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방위각회전 전자빔과 열증착 시스템

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GLAD E-beam & Thermal Evaporator

  • 모델명 KVE-2004
  • 제조사 코리아바큠테크㈜
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 전자빔증착기

상세정보

구축일자 2020-10-15
납품업체 코리아바큠테크㈜
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원 전기전자컴퓨터공학부 A동 F1층 108호
구성및성능 1. 공정챔버
SUS304, 전면도어(시창셔터 혼합형), 전해연마 처리
2. 기판장치
. Holder : Piece to 4inch wafer
. 회전 : 0 ~ 30 RPM
. Tilt : ±85°, 0.1° resolution, zero backlash,
Servo motorized Auto, Programmable 위치제어
3. 전자빔소스
. Rotatable Multi-pocket E-Beam source
6 pkt 7cc crucible, 270°e-beam deflection,
High voltage range : -6kV to -10kV
Lateral,Long coil resistance : 8.5 / 7.5 Ohms.
Water requirements : 2 grm@60℉
Auto crucible indexer, shutter
4. 열증착소스와 파워서플라이
. Metal source (W boat & basket moutable)
. Power supply (10V, 300A)
. Shutter
5.박막두께 자동증착 제어장치
. Co-deposition controller : 1 ea
±0.012Hz resolution, 100 process, 1,000 layers,
50 films control
. 6MHz QCM sensor head & installation kit : 2 ea
6. 프레임과 GUI 시스템 자동제어장치
. 전장제어 Hardware / Software PC 프로그래밍
장비안내 본 장치는 실리콘 웨이퍼 및 시료에 4인치 크기의 고품질 무기 나노 복합 박막 제조 및 물성 분석을 주요 목적으로 하는 장비임
고진공분위기에서 여러겹의 원자층 및 분자층을 증착 할 수 있을 뿐만 아니라 극좌표 및 방위각 회전을 동시에 정확하게 제어함으로써 주상형태, 나노-나선 구조를 갖거나 이방성 구조화 된 신규 3차원 구조가 성장될 수 있다. 이러한 재료는 광자, 촉매, 생체 적합성 재료 및 연료 전지와 같은 많은 국소 분야에 응용됨.