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공동활용 연구장비

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롤투플레이트 진공챔버

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roll to plate (RTP) system for CVD graphene transfer process

  • 모델명 개발장비
  • 제조사 (주) 아이펜
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리분류되지않는반도체장비

상세정보

구축일자 2020-10-29
납품업체 (주) 아이펜
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원 신재생에너지연구동 F1층 101호
구성및성능 - 진공도 10-3 Torr 를 만족하는 진공 Chamber (제어부 제외)
- 4 inch 크기의 그래핀 공정용 전사 roll (폭 110mm 이상) 장착
- 4 inch 기판 대응 RTP 공정용 plate (가로 200mm x 세로 200mm 이상)
- Plate 온도 조절용 hot Chuck 최고온도 200도, 온도균일도 ±3%이내
- 전사 공정시 압입력 정밀 제어: ±3N/100mm 이내
- 전사시 Roll과 Plate간의 정밀 동기 제어: ±5um/100mm
- 외부 CCD 카메라를 이용한 Roll 측 재료와 plate 측 기판 간의 위치 제어 : align 정밀도±10um 이내
장비안내 - 진공 환경에서 CVD 그래핀을 Si wafer와 같은 상용 기판 상에 고품질로 전사
- 공동 연구 테스트 장비의 진공 챔버부 업그레이드를 통해 4 inch wafer 공정 실시

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