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공동활용 연구장비

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집속이온빔 시스템

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Focused Ion Beam System

  • 모델명 NX5000
  • 제조사 Hitachi
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

상세정보

구축일자 2019-12-20
납품업체 Hitachi
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원 중앙연구기기센터 F1층 105호
구성및성능 SEM gun : Cold FE gun (Aquila α)
SEM acc. voltage : 0.1 to 30kV
SEM land. voltage : Min. 0.02kV
SEM high kV res.: 0.7nm at 15kV (Gap method)
SEM low kV res.: 1.5nm at 1kV (Gap method)
SEM probe current : 5pA to 10nA (Aperture : 30um 사용시 30nA)
FIB gun : v column
FIB acc. voltage : 0.5 to 30kV
FIB probe current : 0.1pA to 100nA
FIB resolution : 4nm at 30kV (Gap method)
FIB current range : 0.05pA~100nA
Stage (mm) : X/Y/Z (155/155/16.5mm)
XY repeatability : 0.5um or less
Air lock chamber : Standard
장비안내 집속이온빔(Focused Ion Beam System)은 반도체, 전자,금속 재료의 미세가공을 위한 장비이다. 집속이온빔 장치를 이용하여 나노패턴제조, TEM 시편제작, 고분해능 나노 이미지 관찰, EDS 성분분석 등에 사용된다.

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