Research Hub

대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

공동활용 연구장비

20190226000000238369.jpg

전자빔 리소그래피 시스템

상담·문의하기

Nano-Lithography FE-SEM

  • 모델명 Mira-3
  • 제조사 TESCAN, sro
  • 장비용도 분석
  • 장비구분 광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

상세정보

구축일자 2019-01-31
납품업체 TESCAN, sro
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동 1) 광주과학기술원 지스트대학C동 F3 306
구성및성능 본 장비는 체코 회산인 Tescan사에서 제조한 전계 방출 주사형 전자현미경에 독일 회사인 Raith사의 ELPHY Quantum lithography system을 결합한 형태로서 가속전압 30 kV일 때 1nm의 정밀도를 갖는다
장비안내 본 장비는 전계 방출형 전자현미경과 전자빔 리소그래피 시스템이 결합한 형태로서, 10nm 선폭의 정밀도 및 정확도를 갖기 때문에 나노 소자의 제작에 필수적인 장비이다.
- In beam detector (1.0 nm resolution at 30 kV)
- Beam blanker for FE-SEM (current = 2 pA to 200 nA)
- Stage range: 80x60x47 mm3, tilting = -80 ~ 80 deg
- ELPHY Quantum Lithography System

목록보기