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공동활용 연구장비

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마스크 얼라이너

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Mask aligner

  • 모델명 M100
  • 제조사 프로윈
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

상세정보

구축일자 2019-10-28
납품업체 프로윈
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원 전기전자컴퓨터공학부 A동 F1 공동실험실습실
구성및성능 ①. Top Side Alignment Microscope:
[1] Micro Scope . Objective spacing ~ 150mm
[2] Should be concurrently able to show image in real time on screen using CCD camera. Eyepieces of 5X,10X,20X
[3] Manual Sliding rail ; X: ± 100 mm, Y: ± 100 mm
[4] Manual ; Z : ± 50 mm
②. Alignment stage:
[1] X,Y and θ motion ; Manual
[2] Z motion ; Motorized
[3] X=Y= ±5mm using micrometer screw or more
[4] θ = ±5° or higher
[5] Chuck resolution; X, Y: 0.1 μm, Theta: 4 x 10-5°
[6] Mechanical accuracy: <±0.5㎛ ( step size)
[7] Alignment Gap; adjustable 1 ~ 200um

③. UV Exposure system:
[1] Universal Lamp Housing up to 500 W
[2] Hg > 350W lamp (1 no.)
[3] With all necessary suitable sockets cables connection for 350W and 500W lamps.
[4] Suitable Optics for 350nm and 450 nm wavelength.
[5] UV sensors for 350nm and 450 nm
[6] Parallel light with ±3% uniformity or better on wafer up to 150mm dia.
[7] Upgradable to Micro Optics with different illumination apertures to achieve uniformity better than+/-3%
④. Resolution:
[1] Vacuum Contact 0.5um @1.0um PR THK , Vacuum Contact
[2] Hard Contact 1.0um
[3] Soft Contact 2um
[4] Proximity Contact 4um
장비안내 광학 리소그라피 공정에 사용가능한 마스크 얼라이너 장비입니다. 최소 2 um의 패터닝 공정을 수행 할 수 있습니다. Si 뿐만아니라 GaAs, GaN등 화합물 반도체의 패터닝에 모두 사용됩니다.

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