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공동활용 연구장비

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식각장치

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Etching process system

  • 모델명 KVET-R2000
  • 제조사 코리아바큠테크㈜
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

상세정보

구축일자 2018-11-30
납품업체 코리아바큠테크㈜
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 광주과학기술원 기계공학동 F4층 402
구성및성능 * Gas line
- 2 gas process channel (Ar, O2)

*Gas flow
-Flow range : up to 200sccm
-Control range : 1~ 100%
-Accuracy : +-1%

*Generator
-Output power : Up to 300W

*Etching chamber
-Substrate size : 6inch round substrate

*Vacuum module
-Rotary vacuum pump
-Pump unit : 5.0X10E-4 Torr
-Vacuum control unit : ATM ~ 5x10E-4 Torr / Pirani gauge
-Auto pressure control unit
장비안내 * O2및 Ar 가스에 대한 반응성 이온을 이용한 플라즈마 식각 공정 장치.
* 폴리머 재료에 대한 이방성 식각 공정 및 Wafer & Glass substrate Cleaning

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