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공동활용 연구장비

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열 화학 기상 증착 시스템

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Thermal Chemical Vapor Deposition system

  • 모델명 TCVD-100A
  • 제조사 Graphene Square
  • 장비용도 시험
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 열증착기

상세정보

구축일자 2017-01-17
납품업체 Graphene Square
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 (오룡동) 1 광주과학기술원 금호관 F2층 204
구성및성능 ● Graphene 성장용 thermal CVD
­ - 구성 : process chamber, heating unit, vacuum pumping unit, gas supply unit, Pressure control unit, system controller, system safety frame & utilities
● Process chamber
­ - Material : Φ100mm Quartz tube
­ - End chamber : gas inlet, hinge type door(sample 로딩용), water cooling
● Heating unit
­ - 1 zone furnace type, PID control (resolution 0.1℃)
­ - Max. temperature: 1,300℃ (accuracy ±3℃), Sample temperature: to 1100℃
­ - Included moving rail for sample cooling
● Vacuum pumping unit
­ - Oil rotary vacuum pump (~1*10-3Torr)
­ - Vacuum components
● Gas supply unit & Pressure control unit
­ - Gas line: Mass flow control(H2, Ar, CH4, Spare), N2(venting용)
­ - Baratron gauge(10Torr), Auto throttle valve, low pressure vacuum gauge, controller
● System controller: PC 기반 full auto control system (process, recipe 설정 관리)
● System safety frame(chamber shielding, exhaust leakage gas 포함) & utility
장비안내 ● 본 장치는 Cu foil 상 4인치 이상 크기의 고품질 Graphene 성장 및 공급을 주요 목적으로 하는 Thermal CVD 임
● 다양한 상(액체/고체/기체)의 물질을 공급하여 진공분위기 및 대기압에서 열처리를 통해 신물질로 알려져 있는 Graphene 및 다양한 물질을 합성하는 장비

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