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공동활용 연구장비

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마그네트론 스퍼터링 시스템

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Magnetron Sputtering System

  • 모델명 DDHT-LSH2
  • 제조사 대동하이텍
  • 장비용도 생산
  • 장비구분 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

상세정보

구축일자 2018-01-12
납품업체 대동하이텍
위치 광주광역시 북구 첨단과기로 123 광주과학기술원　 A동 F1 108
구성및성능 - Size : ∮400 x 330(H) (Cylindrical)
- Gun port tile angle: 30°
- Size : I.D 240(W) x 170(D) x 150(H)
- Gate valve size: I.D 220mm x 50(H)
- Capacity: 4" Wafer 1 Sheet Mountable
- Target size: 3" DIA (MAGNETRON)
- Ultimate pressure: ≤ 2 x 10-7 TORR
- Deposition uniformity: Below than ± 5%
- Heating uniformity: Below than ± 3%
- Warranty: 2 years
- Delivery: Within 3 weeks
장비안내 - 스퍼터링은 진공 챔버 내부에서 전극에 (-)전압을 가하여 이온화된 아르곤 등의 가스에 의한 플라즈마 내에서 가스가 가속되어 타겟에 충돌되어, 소스 원자와 분자들을 분출시켜 기판상에 박막을 증착하는 방법임.
- 스퍼터링은 증착법 중에서 균일한 두께의 양질의 박막을 얻을 수 있는 방법이며, 단차 피복성이 우수하여 다양한 형태의 굴곡 또는 단차가 있는 구조의 금속 전극 생성에 적합하므로 플렉서블 광전소자 및 어레이 형태의 대면적 소자 제작을 가능하게 함

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