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분말 입자를 코팅할 수 있는 증착장치 및 분말 입자의 코팅방법
구분
특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2020-03-03
취득구분 등록
기술분류 화학
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-2086574
출원(등록)번호 10-2018-0038474
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
본 발명은 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; ALD) 공정에서 파우더가 서로 뭉치거나 반응기에 흡착되는 것을 최소화할 수 있는 분할형 듀얼 반응기 및 그를 포함하는 파우더 ALD 장치에 관한 것이다. 본 발명은 관 형의 외부 반응기와, 이종 소재의 블록 복수 개가 외부 반응기의 내주면에 결합되어 관 형을 형성하는 내부 반응기를 포함하는 분할형 듀얼 반응기 및 파우더 ALD 장치를 제공한다. 이때 이종 소재의 블록은 교대로 외부 반응기의 내주면에 결합되어 내부 반응기를 형성함으로써, ALD 공정에서 파우더가 음 및 양으로 대전되는 것을 서로 상쇄시켜 파우더가 서로 뭉치거나 반응기에 흡착되는 것을 최소화할 수 있다.
발명자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 김도형 | 전남대학교 화학공학부 |